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    高纯金属纯度控制及提纯技术 2015-02-05     总浏览:11717

    由于金属材料中的杂质会影响半导体芯片等下游产品的导电性能,因此,溅射靶材对金属材料的纯度提出了相当高的要求。公司通过自主研发和合作研发,已经具备生产高纯度的溅射靶材用金属材料(铜纯度≥99.9999%;铝、钛纯度≥99.999%;钽纯度≥99.99%)的技术能力,大大提升企业的市场竞争力。

         乐虎国际官方网站电子生产的溅射靶材,其纯度水平达到以下级别:

    序号

    材质

    纯度

    1

    Al

    ≥99.9995%

    2

    Ti

    ≥99.999%

    3

    Ta

    ≥99.99%

    4

    Cu

    ≥99.9999%

    5

    W

    ≥99.999%

    6

    Mo

    ≥99.99%

    7

    Co

    ≥99.999%


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